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說明:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。  
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圖說:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。該機全長38M,翼展35.4M,高12.1M,基本起飛重量為79.7噸,采用先進的FBL光傳操縱系統,能確保良好的飛行性能和安全性,並具有抗電磁干擾能力,是首款採用這種操縱系統的飛航器。XP-1的巡航速度為每小時833公里,巡航高度為9100M,續航距離約8000公里。裝有比P3-C更為先進的日本國產新型相控陣雷達系統,能從更高的高度探測到潛望鏡等海上的微小目標,并能實現多種模式同時運行。機上還裝有比現在更為先進的聲納系統,配備有高性能聲納浮標,具有很強的淺海探測能力。圖為改裝成海自反潛機塗裝的二號機,機身還是保留了「技術研究本部」的字樣,拍攝於2008年11月20日。  
圖說:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。該機全長38M,翼展35.4M,高12.1M,基本起飛重量為79.7噸,采用先進的FBL光傳操縱系統,能確保良好的飛行性能和安全性,並具有抗電磁干擾能力,是首款採用這種操縱系統的飛航器。XP-1的巡航速度為每小時833公里,巡航高度為9100M,續航距離約8000公里。裝有比P3-C更為先進的日本國產新型相控陣雷達系統,能從更高的高度探測到潛望鏡等海上的微小目標,并能實現多種模式同時運行。機上還裝有比現在更為先進的聲納系統,配備有高性能聲納浮標,具有很強的淺海探測能力。圖為改裝成海自反潛機塗裝的二號機,機身還是保留了「技術研究本部」的字樣,拍攝於2008年11月20日。  
圖說:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。該機全長38M,翼展35.4M,高12.1M,基本起飛重量為79.7噸,采用先進的FBL光傳操縱系統,能確保良好的飛行性能和安全性,並具有抗電磁干擾能力,是首款採用這種操縱系統的飛航器。XP-1的巡航速度為每小時833公里,巡航高度為9100M,續航距離約8000公里。裝有比P3-C更為先進的日本國產新型相控陣雷達系統,能從更高的高度探測到潛望鏡等海上的微小目標,并能實現多種模式同時運行。機上還裝有比現在更為先進的聲納系統,配備有高性能聲納浮標,具有很強的淺海探測能力。圖為改裝成海自反潛機塗裝的二號機,機身還是保留了「技術研究本部」的字樣,拍攝於2008年11月20日。  
圖說:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。該機全長38M,翼展35.4M,高12.1M,基本起飛重量為79.7噸,采用先進的FBL光傳操縱系統,能確保良好的飛行性能和安全性,並具有抗電磁干擾能力,是首款採用這種操縱系統的飛航器。XP-1的巡航速度為每小時833公里,巡航高度為9100M,續航距離約8000公里。裝有比P3-C更為先進的日本國產新型相控陣雷達系統,能從更高的高度探測到潛望鏡等海上的微小目標,并能實現多種模式同時運行。機上還裝有比現在更為先進的聲納系統,配備有高性能聲納浮標,具有很強的淺海探測能力。圖為改裝成海自反潛機塗裝的二號機,機身還是保留了「技術研究本部」的字樣,拍攝於2008年11月20日。  
圖說:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。該機全長38M,翼展35.4M,高12.1M,基本起飛重量為79.7噸,采用先進的FBL光傳操縱系統,能確保良好的飛行性能和安全性,並具有抗電磁干擾能力,是首款採用這種操縱系統的飛航器。XP-1的巡航速度為每小時833公里,巡航高度為9100M,續航距離約8000公里。裝有比P3-C更為先進的日本國產新型相控陣雷達系統,能從更高的高度探測到潛望鏡等海上的微小目標,并能實現多種模式同時運行。機上還裝有比現在更為先進的聲納系統,配備有高性能聲納浮標,具有很強的淺海探測能力。圖為改裝成海自反潛機塗裝的二號機,機身還是保留了「技術研究本部」的字樣,拍攝於2008年11月20日。  
圖說:日本川崎重工領頭開發的XP-1反潛巡邏機,於2008年8月29日移交一號原型機給日本防衛省。該機全長38M,翼展35.4M,高12.1M,基本起飛重量為79.7噸,采用先進的FBL光傳操縱系統,能確保良好的飛行性能和安全性,並具有抗電磁干擾能力,是首款採用這種操縱系統的飛航器。XP-1的巡航速度為每小時833公里,巡航高度為9100M,續航距離約8000公里。裝有比P3-C更為先進的日本國產新型相控陣雷達系統,能從更高的高度探測到潛望鏡等海上的微小目標,并能實現多種模式同時運行。機上還裝有比現在更為先進的聲納系統,配備有高性能聲納浮標,具有很強的淺海探測能力。圖為改裝成海自反潛機塗裝的二號機,機身還是保留了「技術研究本部」的字樣,拍攝於2008年11月20日。  
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